Revestimento a vácuo PVD
O que é revestimento a vácuo PVD? PVD (Deposição Física de Vapor) é a tecnologia de tratamento de superfície mais avançada do mundo. Em um alto-ambiente de vácuo (≤10⁻² Pai), usamos baixo-tensão, alta-descarga de arco atual para ionizar materiais alvo — titânio, cromo, zircônio, alumínio — e deposite-os átomo por átomo em suas peças metálicas de precisão. O resultado? Um revestimento que é mais fino que um fio de cabelo humano (0,04–0,1μeu) ainda mais duro do que a maioria dos aços para ferramentas (2000–5000HV). Em HY-HK,não usamos apenas PVD —nós possuir a tecnologia central patenteada por trás dele, incluindo personalizado-construiu equipamentos PVD e parâmetros de processo proprietários quenenhuma empresa comercial pode igualar.
Princípio Técnico
Como funciona — 3 etapas, átomo por átomo:
① Vaporização: Material alvo (Ti, Cr, Zr, Al) é aquecido ou bombardeado por alta-íons de energia em uma câmara de vácuo, convertendo-os em átomos gasosos.
② Ionização & Transporte: Os átomos do gás são ionizados pelo plasma e acelerados em direção à peça de trabalho por um campo elétrico. O bombardeio de íons limpa simultaneamente a superfície — garantindo adesão superior.
③ Deposição: Átomos ionizados condensam-sena superfície da peça, formando uma superfície densa, uniforme e ultra-filme fino e duro. A espessura é controlada para ±0,01μm precisão via real-monitoramento óptico de tempo.