Revêtement sous vide PVD
Qu'est-ce que le revêtement sous vide PVD ? PVD (Dépôt physique en phase vapeur) est la technologie de traitement de surface la plus avancée au monde. Dans un haut-environnement sous vide (≤10⁻² Papa),nous utilisons faible-tension, haute-décharge d'arc actuelle pour ioniser les matériaux cibles — titane, chrome, zirconium, aluminium — et déposez-les atome par atome sur vos pièces métalliques de précision. Le résultat ? Un revêtement qui est plus fin qu'un cheveu humain (0,04–0,1μm) encore plus dur que la plupart des aciers à outils (2000–5000HV). Chez HY-HK,nousn'utilisons pas seulement le PVD —nous posséder la technologie de base brevetée derrière, y compris la coutume-des équipements PVD construits et des paramètres de processus exclusifs qu'aucune société commercialene peut égaler.
Principe technique
Comment ça marche — 3 étapes, atome par atome:
① Vaporisation: Matériau cible (Ti, Cr, Zr, Al) est chauffé ou bombardé par des températures élevées-des ions énergétiques dans une chambre à vide, les convertissant en atomes gazeux.
② Ionisation & Transports: Les atomes de gaz sont ionisés par le plasma et accélérés vers la pièce par un champ électrique. Le bombardement ioniquenettoie simultanément la surface — assurer adhérence supérieure.
③ Dépôt: Les atomes ionisés se condensent sur la surface de la pièce, formant une couche dense, uniforme et ultra-film mince et dur. L'épaisseur est contrôlée pour ±0,01μm précision via réel-surveillance optique du temps.