PVD Vakuum Coating
Hvad er PVD Vacuum Coating? PVD (Fysisk dampaflejring) er verdens mest avancerede overfladebehandlingsteknologi. I en høj-vakuum miljø (≤10⁻² Pa), vi bruger lav-spænding, høj-strømbueudladning for at ionisere målmaterialer — titanium, krom, zirconium, aluminium — og deponer dem atom for atom på dine præcisionsmetaldele. Resultatet? En belægning altså tyndere end et menneskehår (0,04–0,1μm) endnu hårdere end de fleste værktøjsstål (2000–5000HV). Hos HY-HK, vi bruger ikke kun PVD — vi ejer den patenterede kerneteknologi bag det, herunder skik-bygget PVD-udstyr og proprietære procesparametre, som ingen handelsvirksomhed kan matche.
Teknisk princip
Hvordan det virker — 3 trin, atom for atom:
① Fordampning: Målmateriale (Ti, Cr, Zr, Al) opvarmes eller bombarderes af høj-energiioner i et vakuumkammer, der omdanner det til gasformige atomer.
② Ionisering & Transport: Gasatomer ioniseres af plasma og accelereres mod emnet af et elektrisk felt. Ionbombardement renser samtidig overfladen — sikre overlegen vedhæftning.
③ Deponering: Ioniserede atomer kondenserer på emnets overflade og danner en tæt, ensartet ultra-hård tynd film. Tykkelse styres til ±0,01μm præcision via real-tidsoptisk overvågning.