Acoperire cu vid PVD
Ce este acoperirea cu vid PVD? PVD (Depunerea fizică de vapori) este cea mai avansată tehnologie de tratare a suprafețelor din lume. Într-un mare-mediu de vid (≤10⁻² Pa), folosim low-tensiune, mare-descărcarea curentă a arcului pentru a ioniza materialele țintă — titan, crom, zirconiu, aluminiu — și depune-le atom cu atom pe piesele tale metalice de precizie. Rezultatul? O acoperire care este mai subtire decat un par uman (0,04–0,1μm) încă mai dur decât majoritatea oțelurilor pentru scule (2000–5000HV). La HY-HK,nu folosim doar PVD —noi deține tehnologia de bază patentată în spatele ei, inclusiv obiceiul-echipamente PVD construite și parametri de proces de proprietate pe carenicio societate comercialănu îi poate egala.
Principiul tehnic
Cum funcționează — 3 pași, atom cu atom:
① Vaporizare: Material țintă (Ti, Cr, Zr, Al) este încălzit sau bombardat de mare-ionii de energie într-o cameră vid, transformându-i în atomi gazoși.
② Ionizare & Transport: Atomii de gaz sunt ionizați de plasmă și accelerați către piesa de prelucrat de un câmp electric. Bombardamentul ionic curăță simultan suprafața — asigurând aderenta superioara.
③ Depunerea: Atomii ionizați se condensează pe suprafața piesei de prelucrat, formând un dens, uniform, ultra-peliculă subțire tare. Grosimea este controlată la ±0,01μm precizie prin real-monitorizare optică a timpului.