Rivestimento PVD sotto vuoto
Cos'è il rivestimento sotto vuoto PVD? PVD (Deposizione fisica di vapore) è la tecnologia di trattamento superficiale più avanzata al mondo. In alto-ambiente sottovuoto (≤10⁻² Papà), usiamo basso-tensione, alta-scarica ad arco di corrente per ionizzare i materiali target — titanio, cromo, zirconio, alluminio — e depositali atomo per atomo sulle tue parti metalliche di precisione. Il risultato? Un rivestimento che è più sottile di un capello umano (0,04–0,1μm) ancora più duro della maggior parte degli acciai per utensili (2000–5000HV). Presso HY-HK,non usiamo solo PVD —noi possedere la tecnologia di base brevettata dietro di esso, compresa la consuetudine-ha costruito apparecchiature PVD e parametri di processo proprietari chenessuna società commerciale può eguagliare.
Principio tecnico
Come funziona — 3 passaggi, Atomo per Atomo:
① Vaporizzazione: Materiale target (Ti, Cr, Zr, Al) è riscaldato o bombardato dall'alto-ioni di energia in una camera a vuoto, convertendola in atomi gassosi.
② Ionizzazione & Trasporti: Gli atomi del gas vengono ionizzati dal plasma e accelerati verso il pezzo da lavorare da un campo elettrico. Il bombardamento ionico pulisce contemporaneamente la superficie — garantendo adesione superiore.
③ Deposizione: Gli atomi ionizzati si condensano sulla superficie del pezzo formando una massa densa, uniforme, ultra-film duro e sottile. Lo spessore è controllato ±0,01μm precisione tramite real-monitoraggio ottico del tempo.