PVD vakuové lakování
Co je PVD vakuovénanášení? PVD (Fyzikální depozice par) jenejpokročilejší technologie povrchové úpravyna světě. Ve vysoké-vakuové prostředí (≤10⁻² Pa), používámenízké-napětí, vysoké-proudový obloukový výboj k ionizaci materiálů terče — titan, chrom, zirkon, hliník — a ukládejte je atom po atomuna vaše přesné kovové části. Výsledek? Povlak, který je tenčínež lidský vlas (0,04–0,1μm) ještě tvrdšínež většinanástrojových ocelí (2000–5000 HV). Na HY-HK,nepoužíváme jen PVD — my vlastní patentovanou základní technologii za tím, včetně obyč-zabudované PVD zařízení a vlastní procesní parametry, kterým se žádná obchodní společnostnevyrovná.
Technický princip
Jak to funguje — 3 kroky, atom po atomu:
① Vaporizace: Cílový materiál (Ti, Cr, Zr, Al) je zahřátýnebo bombardován vysokým-energetické ionty ve vakuové komoře a přeměňují jena plynné atomy.
② Ionizace & Doprava: Atomy plynu jsou ionizovány plazmou a urychlovány směrem k obrobku elektrickým polem. Iontové bombardování současně čistí povrch — zajištění vynikající přilnavost.
③ Depozice: Ionizované atomy kondenzujína povrchu obrobku a vytvářejí hustý, rovnoměrný ultra-tvrdý tenký film. Tloušťka je řízenana ±0,01μm přesnost přes real-optické sledování času.